Uticaj brzine depozicije i mikrostrukture substrata na gasnu osetljivost Te - tankih filmova

Apstrakt

Telur tanke folije pripremljene su korišćenjem različitih brzina (0,1 ÷ 30 nm/s) fizičkim taloženjem u vakuumu na staklu, sinterovanoj glinici i elektrohemijski nanostrukturnim Al2O3 supstratima. Osetljivost proizvedenih filmova na gas azot-dioksid testirana je na sobnoj temperaturi. Pokazano je da brzina taloženja snažno utiče na mikrostrukturu filmova o kojima je reč kao i na njihova senzorna svojstva prema gasu. Povećanje brzine taloženja rezultira transformacijom mikrokristalne strukture filma u amorfnu. Istovremeno se smanjuje i osetljivost na gas i vreme odziva. Rezultati su objašnjeni u smislu interakcije između molekula gasa i usamljenih elektrona atoma telura.